一種加強反應釜中氣體分布的裝置,包括反應釜,反應釜內設置有攪拌器,攪拌器與設置在反應釜外部的電機連接,反應釜內.靠近底部設置有開有多個小孔的鈦燒結盤,鈦燒結盤與反應釜的底部形成一密閉空間,形成該密閉空間的反應釜的側壁上連接有通氣管,該通氣管將該密閉空間與氣體正壓裝置相連通.加強反應釜中氣體分布的裝置,通過氣體正壓裝置將氣體反應物通過通氣管送入反應釜底部,然后通過鈦燒結盤上小孔的再分布,將又細小又均勻的氣體氣泡與混合反應液相接觸,并配合攪拌器的攪拌,使反應液產生更劇烈紊流的狀態(tài).因而增強了反應釜中氣體反應物與其他反應物及催化劑之間的接觸,且方便控制,降低了成本.